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EX3 自動橢圓偏振測厚儀

產品型號:EX3

負責人:趙德廠

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產品詳情

EX3自動橢圓偏振測厚儀是基于消光法（或稱“零橢偏”）測量原理，針對納米薄膜厚度測量領域推出的一款自動測量型教學儀器。與EM22儀器相比，該儀器采用半導體激光器作為光源，穩定性好，體積更小。
EX3儀器適用于納米薄膜的厚度測量，以及納米薄膜的厚度和折射率同時測量。
EX3儀器還可用于同時測量塊狀材料（如，金屬、半導體、介質）的折射率n和消光系數k。
特點:
經典消光法橢偏測量原理
儀器采用消光法橢偏測量原理，易于操作者理解和掌握橢偏測量基本原理和過程。
方便安全的樣品水平放置方式
采用水平放置樣品的方式，方便樣品的取放。
緊湊的一體化結構
集成一體化設計，簡潔的儀器外形通過USB接口與計算機相連，方便儀器使用。
高穩定性光源
采用半導體激光器作為探測光的光源，穩定性高，噪聲低。
豐富實用的樣品測量功能
可測量納米薄膜的膜厚和折射率、塊狀材料的復折射率等。
便捷的自動化操作
儀器軟件可自動完成樣品測量，并可進行方便的測量數據分析、儀器校準等操作。
安全的用戶使用權限管理
軟件中設置了用戶使用權限（包括：管理員、操作者等模式），便于儀器管理和使用。
可擴展的儀器功能
利用本儀器，可通過適當擴展，完成多項偏振測量實驗，如馬呂斯定律實驗、旋光測量實、旋光等。
應用領域:
EX3適合于教學中單層納米薄膜的薄膜厚度測量，也可用于測量塊狀材料的折射率n和消光系數k。
EX3可測量的樣品涉及微電子、半導體、集成電路、顯示技術、太陽電池、光學薄膜、生命科學、化學、電化學、磁質存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等領域。
技術指標:

項目	技術指標
儀器型號	EX3
測量方式	自動測量
樣品放置方式	水平放置
光源	半導體激光器，波長635nm
膜厚測量重復性*	0.5nm (對于Si基底上100nm的SiO2膜層)
膜厚范圍	透明薄膜：1-4000nm 吸收薄膜則與材料性質相關
折射率范圍	1.3 – 10
探測光束直徑	Φ2-3mm
入射角度	30°-90°，精度0.05°
偏振器方位角讀數范圍	0-360°
偏振器步進角	0.014°
樣品方位調整	Z軸高度調節：16mm 二維俯仰調節：±4°
允許樣品尺寸	圓形樣品直徑Φ120mm，矩形樣品可達120mm x 160mm
配套軟件	* 用戶權限設置 * 多種測量模式選擇 * 多個測量項目選擇 * 方便的數據分析、計算、輸入輸出
外形尺寸	（入射角度70°時）450375260mm
儀器重量（凈重）	15Kg

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