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                      T1500-60TIG3Z  CVD系統
                  
    
                    
                
    
              
           
            
    
            
    
              
    
                
    T1500-60TIG3Z  CVD系統
    
                
    產品型號:T1500-60TIG3Z
    
                
    負責人:周貝貝
     
                
    QQ:707171058
    
                
    手機:13526881466
    
                
                
              
    
            
    
          
    
          
    
            
    產品詳情
    
            
    
              
    設備簡介：
    化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法，是半導體工業中應用廣泛的用來沉積薄膜材料的技術，包括大范圍的絕緣材料，以及大多數金屬材料和金屬合金材料。成套的CVD鍍膜系統，適用于各大高校材料實驗室、科研院所、環保科學等領域。
    配置詳情：



    NBD-101E嵌入式操作系統中英文互換圖形界面，7寸真彩觸屏輸入，智能式人機對話模式，非線性式樣溫度修正；


    產品型號
    CVD T1500-60TIG3Z
    爐管尺寸
    Φ50*1000mm

    工作溫度
    ≤1450℃

    加熱區尺寸
    310mm

    升溫速率
    ≤20℃/min

    電氣規格
    AC220V  3KW

    氣體系統（可選購）
    流量計類型
    浮子流量計
    質量流量計

    管道示意圖
     
     

    進氣接口數量
    2、3、4（多路可選）

    流量范圍
    20-250/20-800ml/min(多量程可選)
    50/100/200sccm(多量程可選)

    工作壓差范圍
    0-0.15MPa

    低真空系統（可選購）
    真空泵型號
    NBD-1.5C
    NBD-3C
    NBD-4C

    抽氣速率
    1L/s
    3L/s
    4L/s

    進排氣口尺寸
    Φ8mm寶塔接頭
    Φ8mm寶塔接頭
    KF16/25

    壓力
    1000Pa
    100Pa
    10Pa

    工作溫度
    5-40℃

    電氣規格
    AC220V

    高真空系統（可選購）
    真空泵型號
    NBD-103(A)
    NBD-103(B)
    NBD-103(C)

    抽氣速率
    110L/s
    600L/s
    700L/s

    真空測量計
    復合真空計

    壓力
    10^-3Pa
    10^-4Pa
    10^-5Pa

    工作溫度
    5-40℃
    電氣規格
    AC 220V
    AC 220V
    AC 380V



                
    
          
    
           
    
                
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