熱處理設備
南北儀器專業提供實驗室儀器設備一站式解決方案
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產品型號:NBD-PECVD1200-80TI
負責人:周貝貝
QQ:707171058
手機:13526881466
設備簡介:
該產品是由固態等離子源、氣體質子流量控制系統、襯底控溫系統、真空系統組成，采用集中總線控制技術的操作軟件。適用于室溫至1200℃條件下進行SiO2、SiNx薄膜的沉積，同時可實現TEOS源沉積，SiC膜層沉積以及液態氣態源沉積其它材料，適合于有機材料上保護層膜和溫度下無損傷鈍化膜的沉積。
配置詳情:
| 1. 清洗鍍膜一氣呵成，杜絕二次污染； 2. 上開啟式結構，方便觀察試樣； 3. 產品采用全自動控制方式，觸摸屏，數字化顯示； 4. 設備一體化程度高； 5. 射頻電源，均勻的溫度分布，提高成膜質量； | |||||||||
產品型號 | NBD-PECVD1200-80TI | |||||||||
電氣規格 | AC220V 4KW | |||||||||
可達溫度 | 1200 ℃ | |||||||||
連續溫度 | 1150 ℃ | |||||||||
可達加熱速率 | ≤ 20 ℃/分鐘 | |||||||||
射頻電源 | 500W 13.56MHz | |||||||||
爐管尺寸 | Φ80*1200mm | |||||||||
| 沉積示意圖 |
| 如圖所示：此為該設備沉積過程中的示意圖 | ||||||||
控制系統 |
| 1.NBD-101EP嵌入式操作系統中英文互換圖形界面，7寸真彩觸屏輸入，智能式人機對話模式，實時加熱功率顯示，非線性式樣溫度修正；實驗報告自主生成，實驗數據無限次導出。 2.實驗過程直觀，操作便捷； 3.具有超溫報警、斷偶提示、漏電保護等功能。 | ||||||||
溫度精度 | +/- 1 ℃ | |||||||||
加熱元件 |
| Mo摻雜的Fe-Cr-Al合金 | ||||||||
密封系統 |
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真空度：≤10Pa（機械泵） | ||||||||||
壓力測量與監控 |
| 采用數顯真空計，可使設備真空度直觀，實驗結果準確。 | ||||||||
供氣系統 | | 采用兩路質子流量計準確控制氣體流速，與設備集成為一體； | ||||||||
凈重 | 360KG | |||||||||
設備使用注意事項 | 1. 設備爐膛溫度≥300℃時，禁止打開爐膛，避免受到傷害； 2. 設備使用時，爐管內壓力不得超過0.125MPa，以防止壓力過大造成設備損壞； 3. 真空下使用時，設備使用溫度不得超過800℃。 4. 供氣鋼瓶內部氣壓較高，向爐管內通入氣體時，氣瓶上須安裝減壓閥，建議在選購試驗用小壓力減壓閥，減壓閥量程為0.01MPa-0.15MPa,使用時會準確安全。 5.當爐體溫度高于1000℃時，爐管內不可處于真空狀態，爐管內的氣壓需和大氣壓 相當，保持在常壓狀態； 6.高純石英管的長時間使用溫度≦1100℃ 7.加熱的實驗時，不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱，則需時刻關注壓力表的示數，若氣壓表示數大于0.02MPa，須立刻打開排氣端閥門，以防意外發生（如爐 管破裂，法蘭飛出等） | |||||||||
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