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NBD-T1700-80TIG3Z化學氣相沉積CVD一體機

產品型號:NBD-T1700-80TIG3Z

負責人:周貝貝

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產品詳情

設備簡介：

化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法，是半導體工業中應用廣泛的用來沉積薄膜材料的技術，包括大范圍的絕緣材料，以及大多數金屬材料和金屬合金材料。成套的CVD鍍膜系統，適用于各大高校材料實驗室、科研院所、環保科學等領域。

技術參數：

		1.爐體與控制系統集成一體化，使試驗方便快捷直觀。 2.配置浮子流量計或質量流量計混氣氣路，可以單設置氣體流量。 3.PID程序多段控制，實現不同工藝多段溫度時間監控。 4.爐襯采用高純氧化鋁輕質纖維材料。 5.配備機械泵或分子真空泵，可以實現不同的真空條件。
產品型號		NBD-T1700-80TIG3Z
工作溫度		≤1650℃
加熱區尺寸		310mm
恒溫區尺寸		220mm
升溫速率		≤20℃/min
電氣規格		AC 220V 4.5KW
控制系統		1、燒結工藝曲線設置：動態顯示設置曲線，設備燒結可預存多條工藝曲線，每條工藝曲線可自由設置； 2、可預約燒結，實現無人值守燒結工藝曲線燒結； 3、實時顯示燒結功率電壓等信息并記錄燒結數據，并可導出實現無紙記錄； 4、具有實現遠程操控，實時觀測設備狀態； 5、溫度校正：主控溫度和試樣溫度的差值，燒結全程進行非線性修正。
氣體系統（可選購）		流量計類型	浮子流量計				質量流量計
	管道示意圖
	進氣接口數量	2、3、4（多路可選）
	流量范圍	20-200/60-600l/min(多量程可選)				50/100/200sccm(多量程可選)
	工作壓差范圍	0-0.15MPa
低真空系統（可選購）	真空泵型號		NBD-1.5C		NBD-3C		NBD-4C
	抽氣速率		1L/s		3L/s		4L/s
	進排氣口尺寸		Φ8mm寶塔接頭		Φ8mm 寶塔接頭		KF16/25
	壓力		1000Pa		100Pa		10Pa
	工作溫度		5-40℃
	電氣規格		AC220V
分子泵高真空系統（可選購）	分子泵系統型號		NBD-103(A)		NBD-103(B)		NBD-103(C)
	抽氣速率		110L/s		600L/s		700L/s
	真空測量計		復合真空計
	壓力		10^-3Pa		10^-4Pa		10^-5Pa
	工作溫度			5-40℃
	電氣規格			AC 220V	AC 220V			AC 380V

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