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    等離子體增強旋轉PECVD系統(tǒng)

    等離子體增強旋轉PECVD系統(tǒng)

    產(chǎn)品型號:

    負責人:周貝貝

    QQ:707171058

    手機:13526881466

    產(chǎn)品詳情

    設備簡介:

    旋轉擺振PECVD系統(tǒng)適用于粉體材料的表面薄膜沉積。系統(tǒng)由高功率射頻電源(500W,13.56MHz)、氣體質量流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、旋轉擺振系統(tǒng)組成,采用NBD-101EP集中總線控制技術的操作軟件。利用等離子體特性來控制或影響氣相反應和材料表面的化學反應過程,并在適當?shù)臏囟认鲁练e薄膜。PECVD淀積的薄膜具有電學性能、襯底附著性以及臺階覆蓋性,正由于這些特點使其在大規(guī)模集成電路、光電器件、MEMS等領域具有廣泛的應用。

    配置詳情:


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    主要特點:

    1、射頻電源Z大輸出功率:500W(連續(xù)可調),Z大反射功率 70W;

    2、電磁波屏蔽方案;

    3、異形高純石英爐管,大容量反應空間;

    4、旋轉(60檔精調設計)擺振結構,保證物料與等離子體的充分接觸;

    5、三路高精度質量流量計(可依要求定制 ),集成混氣系統(tǒng);

    6、進出料設計,設備在結構復雜狀態(tài)下的便捷進出料;

    7、射頻系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、旋轉擺振系統(tǒng)全面集成于一體,7英寸全觸屏操作,操作便捷、直觀;

    8、可保存六組工藝參數(shù),隨時調取;

    9、實驗數(shù)據(jù)可自動截圖,并支持USB接口導出。

    電氣規(guī)格

    AC220V    1.5千瓦

    設備尺寸

    W1300mm×H1250mm×D760mm;

    反應腔室

    Φ120*L300mm(可定制,管內焊接三組攪拌擋板),非射頻區(qū)管徑:φ60mm;

    翻轉速度

    0.1~6轉/min(無極調速);

    翻轉傾角

    -3°~+3°  Z大傾倒角度30°

    反應腔壓力

    5~80pa

    法蘭結構

    航空鋁快開模式;

    操作系統(tǒng)

    NBD-101EP集中總線控制集成系統(tǒng),7"真彩觸摸屏操控,智能模糊PID 控制;智能式人機對話模式;

    RF 電源

    輸出功率10~500W 任意連續(xù)可調,射頻頻率: 13.56MHz ±0.005% ,全自動匹配;

    真空測試

    數(shù)字真空計獲取裝置;

    真空獲取

    NBD-4C機械真空泵(220V/50Hz),功率:0.4KW,抽速:4m3/h;

    供氣系統(tǒng)

    質量流量控制器(量程及標定可定制)精度:±1%F.S;響應時間:1-4秒;

    設備細節(jié)

     

     

     


    控制系統(tǒng)


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    1、燒結工藝曲線設置:動態(tài)顯示設置曲線,設備燒結可預存多條工藝曲線,每條工藝曲線可自由設置;
    2、可預約燒結,實現(xiàn)無人值守燒結工藝曲線燒結;
    3、實時顯示燒結功率電壓等信息并記錄燒結數(shù)據(jù),并可導出實現(xiàn)無紙記錄;
    4、具有實現(xiàn)遠程操控,實時觀測設備狀態(tài);
    5、溫度校正:主控溫度和試樣溫度的差值,燒結全程進行非線性修正。

    部分界面

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    凈重

    約320KG

    設備使用注意事項


    1.射頻匹配器一般處于自動匹配狀態(tài),一般功率需達到50W以上才能匹配;

    2.若采用手動匹配,將功率設到60W左右,手動調諧匹配合適時,再增加功率

    3.工作時,需改變腔體的氣流量,先要要把功率設置為零,不能直接按“OFF”按鍵關閉射頻輸出。


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